2021年6月28日，根據(jù)《廣東省真空學(xué)會(huì)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)管理辦法》規(guī)定，廣東省真空學(xué)會(huì)批準(zhǔn)發(fā)布《真空表面處理工藝用離子源》3項(xiàng)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，并于發(fā)布之日起實(shí)施。標(biāo)準(zhǔn)編號和名稱如下：

（1）T/GVS 001—2021《真空鍍膜設(shè)備電磁兼容  屏蔽與輻射安全技術(shù)規(guī)范》

（2）T/GVS 002—2021《高精度磁控濺射鍍膜設(shè)備通用技術(shù)要求》

（3）T/GVS 003—2021《真空表面處理工藝用離子源》

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